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Cadence宣布与台积电在28奈米先进制程最新合作
相关专题: 技术创新  发布时间:2010-06-22
资讯导读:  益华电脑(Cadence)宣布其TLM (n-level modeling) 导向设计与验证、 3D IC 设计实现

益华电脑(Cadence)宣布其TLM (transaction-level modeling) 导向设计与验证、 3D IC 设计实现,以及整合 DFM 等先进 Cadence 设计技术与流程,已经融入台积电(TSMC)设计参考流程11.0版中。同时 Cadence也宣布支援台积电的类比/混合讯号 (Analog/Mixed-Signal,以下称 AMS)设计参考流程1.0版,以实现先进的28奈米制程技术。


  Cadence益华电脑的 TLM 导向设计与验证 、3D IC 设计实现以及整合 DFM 等技术,有助于 28奈米 TLM 到 GDSII 进行复杂的晶片设计、设计实现、验证与签核(signoff)。Cadence针对台积电设计参考流程的扩增部分,可帮助双方客户在最短的设计时程下,实现复杂的高效能、低功耗、混合讯号晶片,更支援了Cadence所提出的 EDA360 策略。


  EDA360 愿景需要整个电子生态系统的共同合作,才能够兑现系统至晶片实现(System to Silicon Realization)的新产业境界。 Cadence 对台积电设计参考流程的贡献,能够帮助客户快速建立、重复利用并整合大型数位、类比和混合讯号IP区块,以更快速、更高成本效益来达成这些目标。


  台积电的设计参考流程充分运用先进Cadence TLM 导向设计与验证技术和方法。将设计萃取由RTL层级提前至 TLM 层级、采用Cadence高阶合成、进行设计前期功耗trade-off与最佳化,以及metric-driven功能验证等方法,完成周延的TLM 到GDSII设计流程。先进的3D设计功能包括实体设计与设计实现、RC萃取、时序分析、讯号完整性分析、IR drop、electromagnetic与散热分析等,更包括了实体验证。


  移转至更高设计阶层进行萃取的做法,让客户获得相当大的优势,因为从系统层设计到实体设计的阶段,进行IP的建立和重复利用,让设计与验证生产力大幅增加。独特的Cadence ECO (engineering change order) 功能能避免不必要的反覆作业,实现更快速的上市时程。


  3D IC设计功能则是在设计实现阶段,就能够协助设计决策,确保封装阶段的最佳效能与功耗trade-off.由于DFM设计解决方案整合到设计实现工具中,设计人员能够高枕无忧地完成自己的区块或晶片层设计,达成量产时程的目标。


  Cadence也在此次与台积电的合作中,为低功耗、先进制程与混合讯号设计提供更多的支援。在低功耗领域中,这个流程以Common Power Format (CPF)为基础,支援power state validation与IP library view.在先进制程领域中,以台积电 iLPC 进行微影hot spot修正,以及dummy metal/via插入的修补方式,解决hot spot 的议题,并能将症结反馈至自动化布局与绕线工具的单独GDS介面。


  在系统封装 (system-in-package, SiP ) 混合讯号设计方面,有SiP die/package floorplan、混合讯号IR drop与先进SiP静态时序分析等封装支援。这些崭新的设计参考流程元素,从系统层到签核(signoff)为设计团队提供更高能见度与可预测性,协助在功耗、效能与设计尺寸trade-off的挑战下进行最佳化,并实现最高设计良率。


  支援台积电的AMS设计参考流程1.0版


  同时Cadence也宣布为台积电崭新的28奈米设计参考流程提供周延的产品支援,一步步协助设计迈向晶片实现。Cadence与台积电的合作,旨在解决当今无线、网路架构、消费性与其他应用方面,晶片设计中类比与混合讯号功能日益高涨的复杂性,也满足了整合的需求。


  台积电设计参考流程融合来自 Virtuoso 客制化平台的各种Cadence技术阵容,涵盖在 28奈米制程的 AMS IP 设计、验证与设计实现。在先进 28奈米设计经验证的技术基础上,Cadence与台积电合作,实现了电路图设计、AMS验证、RF与transient noise分析、yield sensitivity分析、constraints-driven布局、类比布局与绕线、实体验证、DFM-aware的寄生萃取、IR drop以及electromigration分析等。

来源:LED环球在线   编辑:admin  
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